Детали новостей
Успех в производстве напитков на воде требует максимальной производительности и эффективности.
Дом / Новости NAVAN / Знание оборудования / Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды

Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды

Просмотры:0     Автор:Pедактор сайта     Время публикации: 2024-10-28      Происхождение:Работает

Запрос цены

facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
Различия между оборудованием для сверхчистой воды и оборудованием для чистой воды

Оборудование для сверхчистой воды использует методы предварительной очистки, обратного осмоса (RO), ультраочистки и последующей обработки, чтобы практически исключить проводящие среды из воды. Он также удаляет недиссоциированные коллоиды, газы и органические вещества до очень низких уровней.


Оборудование для чистой воды в основном использует мембранную технологию обратного осмоса. Его принцип заключается в том, чтобы оказать давление на воду, чтобы молекулы воды и ионизированные минеральные элементы прошли через мембрану обратного осмоса. Большинство растворенных неорганических солей (в том числе тяжелых металлов), органических веществ, бактерий и вирусов не могут пройти через мембрану, что обеспечивает строгое разделение очищенной воды и концентрированной воды. Размер пор мембраны обратного осмоса составляет всего 0,0001 микрона, тогда как размер пор вирусов составляет от 0,02 до 0,4 микрона, а бактерий - от 0,4 до 1 микрона.


1. Различные приложения

(1) Оборудование для сверхчистой воды:

А. Производство и очистка сверхчистых материалов и реагентов.

Б. Производство и очистка электронной продукции.

C. Производство аккумуляторной продукции.

D. Производство и очистка полупроводниковой продукции.

E. Изготовление и очистка печатных плат.

F. Производство другой высокотехнологичной прецизионной продукции.


(2) Оборудование для чистой воды:

А. Химическая очистка воды на электростанциях.

Б. Сверхчистая вода для электроники, полупроводников и точного машиностроения.

C. Подготовка воды для пищевых продуктов, напитков и питьевой воды.

D. Небольшие станции чистой воды и групповая питьевая вода.

E. Вода для тонкой химии и передовых научных областей.

F. Подготовка воды высокой чистоты для различных отраслей промышленности.

G. Технологическая вода для фармацевтической промышленности.

H. Опреснение морской и солоноватой воды.


2. Различная проводимость воды.

· Сверхчистая вода: Удельное сопротивление выходной воды составляет >15 МОм·см, в соответствии с отраслевыми стандартами от 0,5 МОм·см до 18 МОм·см, в зависимости от требуемого качества воды.

· Чистая вода: Она подразделяется на промышленную чистую воду и питьевую чистую воду.

В 25℃,

· Обычная чистая вода: EC = 1~10 мкСм/см.

· Вода высокой чистоты: EC = 0,1~1,0 мкСм/см.

· Сверхчистая вода: EC = 0,1~0,055 мкСм/см.

· Питьевая чистая вода: EC=1~10 мкСм/см (национальный стандарт).

фото 2

3. Различные технологические процессы

Технологические процессы оборудования для сверхчистой воды:

(1) Традиционный процесс:

· Система предварительной обработки → Система обратного осмоса → Промежуточный резервуар для воды → Грубый смешанный слой → Тонкий смешанный слой → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Полирующий смешанный слой → Фильтр тонкой очистки → Потребитель воды (≥18 МОм.см).

· Система предварительной очистки → Система обратного осмоса → Промежуточный резервуар для воды → Насос чистой воды → Грубый смешанный слой → Мелкий смешанный слой → УФ-стерилизатор → Прецизионный фильтр → Точка потребления воды (≥15 МОм·см)

(2) Последние процессы:

· Предварительная обработка → RO → Промежуточный резервуар → Насос → Блок EDI → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Полировка смешанного слоя → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Потребитель воды (≥18 МОм.см).

· Предварительная очистка → RO → Регулировка PH → Промежуточный бак → Вторая ступень RO (ОО-мембрана с положительным зарядом) → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → Блок EDI → УФ-стерилизатор → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Пользователь воды (≥ 17 МОм·см).

· Предварительная обработка → RO → Промежуточный резервуар → Насос → Блок EDI → Резервуар для чистой воды → Насос для чистой воды → УФ-стерилизатор → Фильтр тонкой очистки 0,2 или 0,5 мкм → Потребитель воды (≥15 МОм.см).


Технологические процессы оборудования для очистки чистой воды:

(1) Метод ионного обмена:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Слой катионной смолы → Слой анионной смолы → Слой смешанной смолы → Микропористый фильтр → Водяная точка.

(2) Двухэтапный метод обратного осмоса:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Первая ступень RO → Регулировка PH → Промежуточный бак → Вторая ступень RO (мембрана с положительным зарядом) → Резервуар для чистой воды → Насос чистой воды → Фильтр микропор → Точка подачи воды.

(3) Метод ЭОД:

· Сырая вода → Насос сырой воды под давлением → Мультимедийный фильтр → Фильтр с активированным углем → Смягчитель воды → Фильтр тонкой очистки → Первая ступень RO → Промежуточный резервуар → Промежуточный насос → Система EDI → Микропоровый фильтр → Точка подачи воды.